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昆山熙日機械設(shè)備有限公司提供萊寶真空泵維修,愛德華真空泵維修,愛發(fā)科真空泵維修,英福康檢漏儀,阿特拉斯真空泵,阿爾卡特真空泵維修,普發(fā)真空泵維修,普旭真空泵維修,貝克真空泵維修,真空系統(tǒng)檢漏 等服務。
昆山熙日機械設(shè)備有限公司
真空技術(shù)的應用，使大量高科技產(chǎn)品走入人們的日常生活。事實上，在研發(fā)和工業(yè)領(lǐng)域的大量應用都需要極低的絕對壓力，即高真空環(huán)境。得名于渦輪機系列產(chǎn)品，渦輪分子泵代表著全球領(lǐng)先的技術(shù)標準。轉(zhuǎn)速高達 90,000 rpm 的高速轉(zhuǎn)子能產(chǎn)生應用所需的壓力條件，從而產(chǎn)生在高真空和超高真空范圍內(nèi)的高達 10-11 mbar 的真空度。
普發(fā)真空擁有抽速介于10到2,700 升/秒的完整渦輪分子泵產(chǎn)品系列。產(chǎn)品具有很高的性價比和靈活的安裝方式。經(jīng)過實踐驗證的軸承系統(tǒng)提供了更優(yōu)化的可靠性。通常有兩種類型的軸承可供選擇——一種是由前級真空端的陶瓷球軸承與高真空端的永磁徑向軸承組合而成的復合軸承系統(tǒng)，另一種是完全主動式的磁懸浮軸承系統(tǒng)，其轉(zhuǎn)子懸浮空中，無任何接觸或磨損。得益于精密的轉(zhuǎn)子設(shè)計，使產(chǎn)品具有更出色的抽速，更好的前級泵兼容性和更大的氣流量，對于小分子氣體具有更高的壓縮比。
現(xiàn)代渦輪分子泵能獲得超過 400 米/每秒的圓周速度。這將轉(zhuǎn)化為相應的高轉(zhuǎn)子動能，當轉(zhuǎn)子和定子相觸，動能將在瞬間傳輸?shù)酵鈿ず捅玫牡鬃稀Ｒ虼耍猛鈿さ姆€(wěn)定性具有至關(guān)重要的作用，需經(jīng)過理論和實際的雙重檢驗。普發(fā)真空的渦輪分子泵已通過UL 61010和/或Semi S2認證。除機械安全性能外，該認證同時也包括了防火和轉(zhuǎn)速過高的雙重保護，這向認證是由普發(fā)真空與TüV Rheinland共同開創(chuàng)的。
真空對于整個生產(chǎn)流程成功與否往往起著決定性作用。一旦出現(xiàn)缺陷批次或者生產(chǎn)失敗，根據(jù)用途不同，造成的損失高達數(shù)百萬歐元。因此，所有安裝部件具有較高可靠性變得越來越重要。如今，渦輪泵的工作時間常高達十萬小時以上。在這段時間內(nèi)，應盡可能減少由于維護或服務作業(yè)而造成的計劃內(nèi)中斷。該泵具有可以在現(xiàn)場更換軸承或機油的特點。結(jié)合該特點，使其具有極高的可用性。渦輪內(nèi)置有集成驅(qū)動電子設(shè)備，從而顯著降低了電纜支出。較先進的驅(qū)動技術(shù)將能耗降至較低，控制方案也多種多樣。符合防護等級 IP 54 的結(jié)構(gòu)使該泵特別適合于工業(yè)用途。結(jié)構(gòu)形式緊湊，即使在狹窄空間，依然可以安裝使用。為了保持低成本，可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅(qū)動電子設(shè)備 可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅(qū)動電子設(shè)備。重量方面也在持續(xù)改進：一臺抽速達 250 l/s 的渦輪泵，其重量僅為 6 kg。普發(fā)真空渦輪泵廣泛的應用領(lǐng)域不僅涵蓋分析儀器、真空處理和半導體技術(shù)，還包括涂層、科研和工業(yè)用途。
在很多產(chǎn)品制造和工藝研究領(lǐng)域中，真空技術(shù)發(fā)揮著決定性的作用。渦輪分子泵對于制造極純工藝條件具有至關(guān)重要的作用。
應用范圍覆蓋多個領(lǐng)域：
分析儀器（質(zhì)譜分析法、顯微鏡等）
半導體行業(yè)（電子組件、集成電路、太陽能電池等）
光學/玻璃行業(yè)（隔熱保護、防反射、反射、濾光鏡鍍膜等）
真空鍍膜技術(shù)*（表面保護、裝飾土層、顯示技術(shù)、屏幕等）
真空冶金（真空焊接、真空燒結(jié)、真空合金、真空爐等）
泄漏檢測（真空系統(tǒng)、機車燃料箱、安全氣囊、真空包裝行業(yè)）
科研設(shè)施（核粒子物理學、核聚變研究、激光應用等）
燈具行業(yè)（燈具生產(chǎn)等）
電磁軸承也被稱作“主動式磁懸浮軸承”，其轉(zhuǎn)子位置會被不間斷的監(jiān)測和自動調(diào)整，并依靠自動平衡補償來實現(xiàn)無磨損、低震動的運行。保證轉(zhuǎn)子能持續(xù)穩(wěn)定的工作。同時，這樣的軸承設(shè)計也實現(xiàn)了零維護和無潤滑油。
HiPace M和ATH 500 M擁有5軸磁軸承。利用這種軸承技術(shù)，轉(zhuǎn)子 的位置能被實時控制。在工作中，動平衡裝置會進行自動校準，可 以較小程度上減輕震動和工藝過程中產(chǎn)生的軸承位移。低能耗和極 低的維護成本確保了其極高的性價比。
是否覺得不同的界面接口標準讓您頭疼不已？我們的磁懸浮渦輪分 子泵能提供集成化的電子驅(qū)動裝置供您選擇，從而滿足各種不同界 面接口的連接需要。
我們ATH M和ATP M系列的磁懸浮渦輪分子泵擁有5軸磁軸轉(zhuǎn)子 監(jiān)測系統(tǒng)和實時的轉(zhuǎn)子位移自動修正功能。通過采用這種高性能的 軸承技術(shù)，我們的泵不僅能確保長時間的穩(wěn)定性和可靠性，同時運 行時也非常安靜。此系列軸承技術(shù)的泵在半導體、鍍膜和干蝕刻等 離子體過程行業(yè)的高真空工藝中具有成員地位，此外也廣泛應用于 許多其他工業(yè)行業(yè)和研發(fā)領(lǐng)域。
ATH 1600 M
Holweck 級 5 軸磁懸浮渦輪泵適合用于 N2的直至 1400 l/s 的吸氣能力
水冷
帶有CE標志且符合 RoHS 標準
加熱版本（MT）可用于腐蝕性應用
使用集成驅(qū)動電子設(shè)備 OBC 或外部 Magpower 驅(qū)動電子設(shè)備運行
用于在所有情況下的安裝
ATH 1600 MT，DN 200 CF-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，加熱 (P6522103)
ATH 1600 MT，DN 200 ISO-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，加熱 (P6562103)
ATH 1600 MT，DN 250 CF-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，加熱 (P6622103)
ATH 1600 MT，DN 250 ISO-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，加熱 (P6662103)
ATH 1603 M，DN 200 CF-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，非加熱 (Y2522100)
ATH 1603 M，DN 200 ISO-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，非加熱 (Y2562100)
ATH 1603 M，DN 250 CF-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，非加熱 (Y2622100)
ATH 1603 M，DN 250 ISO-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，非加熱 (Y2662100)
ATH 1603 M，DN 200 CF-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，遙控，水冷，非加熱 (YC52215A)
ATH 1603 M，DN 200 ISO-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，遙控，水冷，非加熱 (YC56215A)
ATH 1603 M，DN 250 CF-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，遙控，水冷，非加熱 (YC62215A)
ATH 1603 M，DN 250 ISO-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，遙控，水冷，非加熱 (YC66215A)
ATH 1603 M，DN 200 CF-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，DeviceNet，水冷，非加熱 (YE52215A)
ATH 1603 M，DN 200 ISO-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，DeviceNet，水冷，非加熱 (YE56215A)
ATH 1603 M，DN 250 CF-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，DeviceNet，水冷，非加熱 (YE62215A)
ATH 1603 M，DN 250 ISO-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，DeviceNet，水冷，非加熱 (YE66215A)
ATH 1603 M，DN 200 CF-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，Profibus，水冷，非加熱 (YG52215A)
ATH 1603 M，DN 200 ISO-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，Profibus，水冷，非加熱 (YG56215A)
ATH 1603 M，DN 250 CF-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，Profibus，水冷，非加熱 (YG62215A)
ATH 1603 M，DN 250 ISO-F，OBC V4 集成驅(qū)動電子設(shè)備，Profibus，水冷，非加熱 (YG66215A)
ATH 1600 MT，DN 200 CF-F，外部驅(qū)動電子設(shè)備，水冷，加熱
使用外部Magpower 驅(qū)動電子設(shè)備運行
用于在所有情況下的安裝
水冷，加熱
帶有CE標志且符合 RoHS 標準
Holweck 級 5 軸磁懸浮渦輪泵適合用于 N2的直至 1360 l/s 的吸氣能力
法蘭 DN 200 CF-F 適用于超高真空時要求嚴苛的應用
技術(shù)參數(shù)| Ar 的壓縮比 | > 1 · 108 |
| Ar 的抽速 | 1280 l/s |
| Ar 的較大轉(zhuǎn)速時的氣體流量，75 °C 的被加熱的泵 | 8.5 hPa l/s | 6.38 Torr l/s | 8.5 mbar l/s |
| Ar 的氣體流量 | 20.3 hPa l/s | 15.22 Torr l/s | 20.3 mbar l/s |
| H2 的壓縮比 | > 5 · 102 |
| H2 的抽速 | 540 l/s |
| H2 的較大轉(zhuǎn)速時的氣體流量，75 °C 的被加熱的泵 | > 16.9 hPa l/s | > 12.68 Torr l/s | > 16.9 mbar l/s |
| H2 的氣體流量 | > 67.6 hPa l/s | > 50.7 Torr l/s | > 67.6 mbar l/s |
| He 的壓縮比 | > 4 · 103 |
| He 的抽速 | 940 l/s |
| He 的氣體流量 | > 67.6 hPa l/s | > 50.7 Torr l/s | > 67.6 mbar l/s |
| I/O 接口 | 通過外部驅(qū)動電子設(shè)備 |
| N2 的壓縮比 | > 1 · 108 |
| N2 的抽速 | 1360 l/s |
| N2 的較大轉(zhuǎn)速時的氣體流量，75 °C 的被加熱的泵 | 16.9 hPa l/s | 12.68 Torr l/s | 16.9 mbar l/s |
| N2 的較大預真空 | 2.2 百帕 |
| N2 的氣體流量 | 67.6 hPa l/s | 50.7 Torr l/s | 67.6 mbar l/s |
| 不帶氣鎮(zhèn)的較終壓力 | < 6 · 10-9 百帕 |
| 允許冷卻水的溫度 | 15 – 25 °C 攝氏度 |
| 冷卻水消耗較小值 | 60 l/h |
| 冷卻水耗量 | 60 l/h |
| 冷卻類型 | 水 |
| 冷卻類型，標準 | 水 |
| 分離的驅(qū)動電氣設(shè)備 | 是 |
| 聲壓水平 | ≤48 dB(A) 分貝 (A) |
| 安裝方向 | 任何 |
| 工作電壓 | 200 – 240 / 200 – 240, 50/60 Hz V AC |
| 方位 | 配有磁軸承 |
| 較終壓力 | < 6 · 10-9 百帕 |
| 較終壓力時的功率消耗 | 300 瓦 |
| 電子驅(qū)動單元 | 外部驅(qū)動電子設(shè)備 |
| 耗電量 max. | 650 瓦 |
| 腐蝕性氣體的版本 | 是 |
| 轉(zhuǎn)速 ?± 2 % | 39,000 rpm | 39,000 min-1 |
| 運行時間 | < 6 分 |
| 連接法蘭（入口） | DN 200 CF-F |
| 連接法蘭（出口） | DN 40 ISO-KF |
| 重量 | 34 千克 |
| 顆粒計數(shù) | 是 |
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